激光工程研究院学术报告

激光工程研究院学术报告:分子动力学模拟石墨烯缺陷结构
题目:分子动力学模拟石墨烯缺陷结构
时间:2013年4月26日(星期五)15:30
地点:激光工程研究院报告厅(科学楼B206)
报告人: 孙运金博士(西安交通大学)

 

缺陷结构是影响石墨烯关键的因素之一。 
本研究基于分子动力学模拟,阐明了本征应力及热应力在缺陷发展中的作用。C-C 键旋转是Stone-Wales 缺陷形成的条件,SW缺陷最终控制石墨烯的力学性能。
 

  欢迎感兴趣的教师、研究生、本科生参加!                                                                                                 激光工程研究院